2 月 27 日消息，韩媒 etnews 近日报道称 SK 海力士将于今年引入 8 台 EUV 光刻机，推动 DRAM 内存产品的技术演进。

SK 海力士现有 5 台光刻机。到今年末，若加上韩媒报道中称的 8 台，其拥有的 EUV 光刻机总数将达 13 台，较年初翻倍有余，大幅提升 EUV 曝光能力。

SK 海力士于第四代 10 纳米级制程 ——1anm 制程中首次引入 EUV 光刻，当时仅在 1 个步骤中使用；而来到目前的 1bnm 节点中，EUV 使用步骤提升到 4 个；至于正在研发的 1cnm 工艺，据 etnews 透露，EUV 使用量将进一步提升至 6 个步骤。

SK 海力士今年计划在半导体设备领域投资 5.3 万亿韩元（IT之家备注：当前约 286.73 亿元人民币）。etnews 称新 EUV 设备总共价值约 2 万亿韩元，预计将占到整体设备投资的近四成。

etnews 就 EUV 设备引进计划向 SK 海力士发言人寻求回应，发言人表示“无法确认公司设备投资情况”。